半導(dǎo)體芯片冷熱沖擊方法
將試件芯片通電置于置物架上;
根據(jù)要求設(shè)定試驗(yàn)溫度;
首先對(duì)試件進(jìn)行低溫試驗(yàn),再進(jìn)行高溫試驗(yàn),循環(huán)次數(shù)依要求進(jìn)行;
記錄半導(dǎo)體芯片工作狀態(tài)下,在設(shè)定溫度下的相關(guān)參數(shù), 對(duì)產(chǎn)品分析, 工藝改進(jìn)以及批次的定向品質(zhì)追溯提供確實(shí)的數(shù)據(jù)依據(jù)。
冷熱沖擊方向選擇
試件從低溫或是高溫試驗(yàn)開(kāi)始,不同標(biāo)準(zhǔn)有不同的解析。若試驗(yàn)從低溫段開(kāi)始,試驗(yàn)結(jié)束在高溫段;若試驗(yàn)從高溫段開(kāi)始,結(jié)束在低溫段。為防止試件在試驗(yàn)結(jié)束后表面產(chǎn)品凝露,試驗(yàn)結(jié)束在低溫段時(shí)需要增加烘干恢復(fù)的過(guò)程,這樣就增加了試驗(yàn)周期,建議試驗(yàn)從低溫段開(kāi)始,結(jié)束在高溫段。
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